文献
J-GLOBAL ID:200902288464685206
整理番号:09A0552296
オゾンによるシリコン酸化
Silicon oxidation by ozone
著者 (4件):
FINK Christian K
(Univ. Cambridge, Cambridge, GBR)
,
NAKAMURA Ken
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)
,
ICHIMURA Shingo
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)
,
JENKINS Stephen J
(Univ. Cambridge, Cambridge, GBR)
資料名:
Journal of Physics. Condensed Matter
(Journal of Physics. Condensed Matter)
巻:
21
号:
18
ページ:
183001,1-19
発行年:
2009年05月06日
JST資料番号:
B0914B
ISSN:
0953-8984
CODEN:
JCOMEL
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
文献レビュー
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)