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文献
J-GLOBAL ID：200902288537070574
整理番号：09A0917212
高出力パルスマグネトロンスパッタリング:基礎と応用
High power pulsed magnetron sputtering: Fundamentals and applications
ALAMI J.
(Sulzer Metaplas GmbH, Am Boettcherberg 30-38, Bergisch Gladbach, DEU)
,
BOLZ S.
(Inst. of Surface Engineering, RWTH-Aachen Univ., 52056 Aachen, DEU)
,
SARAKINOS K.
(Materials Chemistry, RWTH Aachen Univ., 52074 Aachen, DEU)
資料名：
Journal of Alloys and Compounds
(Journal of Alloys and Compounds)
巻： 483 号： 1-2 ページ： 530-534 発行年： 2009年08月26日
JST資料番号： D0083A ISSN： 0925-8388 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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