文献
J-GLOBAL ID:200902288793301761
整理番号:07A0652538
SU-8:高アスペクト比および3Dサブミクロンリソグラフィ用フォトレジスト
SU-8: a photoresist for high-aspect-ratio and 3D submicron lithography
著者 (2件):
DEL CAMPO A
(Max-Planck-Inst. Metallforschung, Stuttgart, DEU)
,
GREINER C
(Max-Planck-Inst. Metallforschung, Stuttgart, DEU)
資料名:
Journal of Micromechanics and Microengineering
(Journal of Micromechanics and Microengineering)
巻:
17
号:
6
ページ:
R81-R95
発行年:
2007年06月
JST資料番号:
W1424A
ISSN:
0960-1317
CODEN:
JMMIEZ
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
解説
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)