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文献
J-GLOBAL ID:200902289166995657   整理番号:04A0094251

SON工程で実現した高性能二重ゲートMOSFET

Highly Performant Double Gate MOSFET realized with SON process
著者 (9件):
HARRISON S
(L2MP, Marseille, FRA)
CORONEL P
(STMicroelectronics, Crolles, FRA)
LEVERD F
(STMicroelectronics, Crolles, FRA)
CERUTTI R
(STMicroelectronics, Crolles, FRA)
DELILLE D
(Philips Semiconductors, Crolles, FRA)
BOREL S
(CEA, Grenoble, FRA)
JULLIAN S
(Philips Semiconductors, Crolles, FRA)
MUNTEANU D
(L2MP, Marseille, FRA)
AUTRAN J-L
(L2MP, Marseille, FRA)

資料名:
Technical Digest. International Electron Devices Meeting  (Technical Digest. International Electron Devices Meeting)

巻: 2003  ページ: 449-452  発行年: 2003年 
JST資料番号: C0829B  ISSN: 0163-1918  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 短報  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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