文献
J-GLOBAL ID:200902289166995657
整理番号:04A0094251
SON工程で実現した高性能二重ゲートMOSFET
Highly Performant Double Gate MOSFET realized with SON process
著者 (9件):
HARRISON S
(L2MP, Marseille, FRA)
,
CORONEL P
(STMicroelectronics, Crolles, FRA)
,
LEVERD F
(STMicroelectronics, Crolles, FRA)
,
CERUTTI R
(STMicroelectronics, Crolles, FRA)
,
DELILLE D
(Philips Semiconductors, Crolles, FRA)
,
BOREL S
(CEA, Grenoble, FRA)
,
JULLIAN S
(Philips Semiconductors, Crolles, FRA)
,
MUNTEANU D
(L2MP, Marseille, FRA)
,
AUTRAN J-L
(L2MP, Marseille, FRA)
資料名:
Technical Digest. International Electron Devices Meeting
(Technical Digest. International Electron Devices Meeting)
巻:
2003
ページ:
449-452
発行年:
2003年
JST資料番号:
C0829B
ISSN:
0163-1918
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)