文献
J-GLOBAL ID:200902289236075330
整理番号:04A0867304
高周波マグネトロンスパッタ法によるSiC膜の機械的特性に及ぼす酸素分圧の影響
Effects of O2 Gas Partial Pressure on Mechanical Properties of SiC Films Deposited by Radio Frequency Magnetron Sputtering
著者 (3件):
藤山博一
(福岡工大 工)
,
李木経孝
(広島国際学院大)
,
天本祥文
(福岡工大 大学院工学研究科)
資料名:
福岡工業大学エレクトロニクス研究所所報
(Reports of the Electronics Research Laboratory, Fukuoka Institute of Technology)
巻:
21
ページ:
15-22
発行年:
2004年10月31日
JST資料番号:
Y0948A
ISSN:
0911-050X
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
日本語 (JA)