文献
J-GLOBAL ID:200902289584800188
整理番号:08A0711183
CMOSデバイス作製のためのジブロック共重合体の直接自己組織化
Diblock Copolymer Directed Self-Assembly for CMOS Device Fabrication
著者 (3件):
CHANG Li-Wen
(Stanford Univ., CA, USA)
,
CALDWELL Marissa A.
(Stanford Univ., CA, USA)
,
WONG H.-S.Philip
(Stanford Univ., CA, USA)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
6921
号:
Pt.2
ページ:
69212M.1-69212M.6
発行年:
2008年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)