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文献
J-GLOBAL ID：200902290250878591
整理番号：03A0254978
高周波マグネトロンスパッタリングで成長させたZr/Ti比の異なるエピタキシャルPb(Zr,Ti)O3膜の結晶学的特性評価
Crystallographic characterization of epitaxial Pb(Zr,Ti)O3 films with different Zr/Ti ratio grown by radio-frequency-magnetron sputtering
KANNO I
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
,
KOTERA H
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
,
WASA K
(Yokohama City Univ., Yokohama, JPN)
,
MATSUNAGA T
(Matsushita Electric Ind., Osaka, JPN)
,
KAMADA T
(Matsushita Electric Ind., Osaka, JPN)
,
TAKAYAMA R
(Matsushita Electric Ind., Osaka, JPN)
資料名：
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻： 93 号： 7 ページ： 4091-4096 発行年： 2003年04月01日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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