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文献
J-GLOBAL ID：200902290428931211
整理番号：04A0151044
Ru超薄膜に関する低温化学蒸着およびスケーリング限度
Low-temperature chemical vapor deposition and scaling limit of ultrathin Ru films
WANG Q
(Univ. Texas Austin, Texas)
,
EKERDT J G
(Univ. Texas Austin, Texas)
,
GAY D
(Univ. Texas Austin, Texas)
,
SUN Y-M
(Univ. Texas Austin, Texas)
,
WHITE J M
(Univ. Texas Austin, Texas)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 84 号： 8 ページ： 1380-1382 発行年： 2004年02月23日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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