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文献
J-GLOBAL ID：200902290803508046
整理番号：07A0716195
酸化インジウムすず基板と疎水性-親水性パターン形成層を併用したゾル-ゲル式電着塗装プロセスによる凸型ポリベンジルシルセスキオキサン製微細パターン形成法
Fabrication of convex-shaped polybenzylsilsesquioxane micropatterns by the electrophoretic sol-gel deposition process using indium tin oxide substrates with a hydrophobic-hydrophilic-patterned surface
TAKAHASHI Kenji
(Osaka Prefectural Univ., Osaka, JPN)
,
TADANAGA Kiyoharu
(Osaka Prefectural Univ., Osaka, JPN)
,
MATSUDA Atsunori
(Osaka Prefectural Univ., Osaka, JPN)
,
HAYASHI Akitoshi
(Osaka Prefectural Univ., Osaka, JPN)
,
TATSUMISAGO Masahiro
(Osaka Prefectural Univ., Osaka, JPN)
,
MATSUDA Atsunori
(Toyohashi Univ. Technol., Aichi, JPN)
資料名：
Journal of Sol-Gel Science and Technology
(Journal of Sol-Gel Science and Technology)
巻： 43 号： 1 ページ： 85-91 発行年： 2007年07月
JST資料番号： W0812A ISSN： 0928-0707 CODEN： JSGTEC 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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