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文献
J-GLOBAL ID：200902290934195884
整理番号：07A1208330
ヘキサデカン中における高電場走査プローブリソグラフィー: 表面修飾による電場誘起酸化から溶媒分解への転移
High-Field Scanning Probe Lithography in Hexadecane: Transitioning from Field Induced Oxidation to Solvent Decomposition through Surface Modification
SUEZ Itai
(Univ. California, CA, USA)
,
ROLANDI Marco
(Univ. California, CA, USA)
,
ROLANDI Marco
(Lawrence Berkeley National Lab., CA, USA)
,
BACKER Scott A
(Univ. California, CA, USA)
,
SCHOLL Andreas
(Lawrence Berkeley National Lab., CA, USA)
,
DORAN Andrew
(Lawrence Berkeley National Lab., CA, USA)
,
OKAWA David
(Univ. California, CA, USA)
,
ZETTI Alex
(Univ. California, CA, USA)
,
ZETTI Alex
(Lawrence Berkeley National Lab., CA, USA)
,
FRECHET Jean M J
(Univ. California, CA, USA)
,
FRECHET Jean M J
(Lawrence Berkeley National Lab., CA, USA)
資料名：
Advanced Materials
(Advanced Materials)
巻： 19 号： 21 ページ： 3570-3573 発行年： 2007年11月05日
JST資料番号： W0001A ISSN： 0935-9648 CODEN： ADVMEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： ドイツ (DEU) 言語： 英語 (EN)
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