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文献
J-GLOBAL ID：200902291477005329
整理番号：04A0211779
Ar/H2O中でのパルス放電におけるOHラジカル密度の減衰特性の研究
Study on Decay Characteristics of OH Radical Density in Pulsed Discharge in Ar/H2O
TOCHIKUBO F
(Tokyo Metropolitan Univ., Tokyo, JPN)
,
UCHIDA S
(Tokyo Metropolitan Univ., Tokyo, JPN)
,
WATANABE T
(Tokyo Metropolitan Univ., Tokyo, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 43 号： 1 ページ： 315-320 発行年： 2004年01月15日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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