文献
J-GLOBAL ID:200902291836459560
整理番号:08A0122452
LWM9000走査電子顕微鏡によるEUVマスクの精度性能と走査損傷の研究
A Study of precision performance and scan damage of EUV masks with the LWM9000 SEM
著者 (9件):
YONEKURA Isao
(Toppan Printing Co., Ltd., Saitama, JPN)
,
HAKII Hidemitsu
(Toppan Printing Co., Ltd., Saitama, JPN)
,
YOSHII Takashi
(Toppan Printing Co., Ltd., Saitama, JPN)
,
NEGISHI Yoshiyuki
(Toppan Printing Co., Ltd., Saitama, JPN)
,
OOHIRA Katsumi
(Toppan Printing Co., Ltd., Saitama, JPN)
,
KANAYAMA Koichirou
(Toppan Printing Co., Ltd., Saitama, JPN)
,
KAWASHITA Masashi
(Toppan Printing Co., Ltd., Saitama, JPN)
,
SAKATA Yo
(Toppan Printing Co., Ltd., Saitama, JPN)
,
TANAKA Keishi
(Toppan Printing Co., Ltd., Saitama, JPN)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
6730
号:
Pt.3
ページ:
67305H.1-67305H.12
発行年:
2007年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)