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文献
J-GLOBAL ID：200902291870591272
整理番号：05A0656204
パルスレーザ堆積法によるNaxCoO2薄膜のエピタキシャル成長
Epitaxial growth of Na x CoO2 thin films by pulsed laser deposition
KROCKENBERGER Y.
(Max-Planck-Institut fuer Festkoerperforschung, Heisenbergstraβe 1, D-70569 Stuttgart, DEU)
,
FRITSCH I.
(Max-Planck-Institut fuer Festkoerperforschung, Heisenbergstraβe 1, D-70569 Stuttgart, DEU)
,
CRISTIANI G.
(Max-Planck-Institut fuer Festkoerperforschung, Heisenbergstraβe 1, D-70569 Stuttgart, DEU)
,
MATVEEV A.
(Max-Planck-Institut fuer Festkoerperforschung, Heisenbergstraβe 1, D-70569 Stuttgart, DEU)
,
ALFF L.
(Vienna Univ. of Technol., Gusshausstr. 27, A-1040 Vienna, AUT)
,
HABERMEIER H.-u.
(Max-Planck-Institut fuer Festkoerperforschung, Heisenbergstraβe 1, D-70569 Stuttgart, DEU)
,
KEIMER B.
(Max-Planck-Institut fuer Festkoerperforschung, Heisenbergstraβe 1, D-70569 Stuttgart, DEU)
資料名：
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻： 486 号： 1-2 ページ： 170-173 発行年： 2005年08月22日
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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