文献
J-GLOBAL ID:200902291995590081
整理番号:06A0805713
ふっ素によるHfO2ゲート酸化物の欠陥パッシベーション
Defect passivation in HfO2 gate oxide by fluorine
著者 (2件):
TSE K.
(Engineering Dep., Cambridge Univ., Cambridge CB2 1PZ, GBR)
,
ROBERTSON J.
(Engineering Dep., Cambridge Univ., Cambridge CB2 1PZ, GBR)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
89
号:
14
ページ:
142914-142914-3
発行年:
2006年10月02日
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)