文献
J-GLOBAL ID:200902292027964861
整理番号:03A0238461
アルカリ性水溶液中における化学前処理したSi(100)ウエハ上でのニッケル無電解析出プロセス
Nickel electroless deposition process on chemically pretreated Si(100) wafers in aqueous alkaline solution.
著者 (4件):
NIWA D
(Waseda Univ., Tokyo, JPN)
,
TAKANO N
(Waseda Univ., Tokyo, JPN)
,
YAMADA T
(Waseda Univ., Tokyo, JPN)
,
OSAKA T
(Waseda Univ., Tokyo, JPN)
資料名:
Electrochimica Acta
(Electrochimica Acta)
巻:
48
号:
9
ページ:
1295-1300
発行年:
2003年04月20日
JST資料番号:
B0535B
ISSN:
0013-4686
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)