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J-GLOBAL ID：200902292725905826 整理番号：03A0745520

HfO₂の堆積時における界面SiO₂の分解

Decomposition of interfacial SiO₂ during HfO₂ deposition

著者 (2件)：

COPEL M

(IBM Res. Div., New York)

REUTER M C

(IBM Res. Div., New York)

資料名：

Applied Physics Letters (Applied Physics Letters)

巻： 83 号： 16 ページ： 3398-3400 発行年： 2003年10月20日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：短報発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

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HfO2の堆積時における界面SiO2の分解

HfO₂の堆積時における界面SiO₂の分解