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文献
J-GLOBAL ID:200902292791446018   整理番号:05A0131449

サファイア(0001)微斜面基板上に成長させたGaN薄膜における貫通転位密度の減少

Reduction of the threading dislocation density in GaN films grown on vicinal sapphire (0001) substrates
著者 (3件):
SHEN X Q
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)
MATSUHATA H
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)
OKUMURA H
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)

資料名:
Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)

巻: 86  号:ページ: 021912.1-021912.3  発行年: 2005年01月10日 
JST資料番号: H0613A  ISSN: 0003-6951  CODEN: APPLAB  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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