文献
J-GLOBAL ID:200902292791446018
整理番号:05A0131449
サファイア(0001)微斜面基板上に成長させたGaN薄膜における貫通転位密度の減少
Reduction of the threading dislocation density in GaN films grown on vicinal sapphire (0001) substrates
著者 (3件):
SHEN X Q
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)
,
MATSUHATA H
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)
,
OKUMURA H
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
86
号:
2
ページ:
021912.1-021912.3
発行年:
2005年01月10日
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)