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文献
J-GLOBAL ID：200902293482451097
整理番号：08A0202488
テトラキス(ジメチルアミノ)すずを用いた酸化スズ膜の原子層蒸着
Atomic layer deposition of tin oxide films using tetrakis(dimethylamino) tin
ELAM Jeffrey W.
(Argonne National Lab., Argonne, Illinois 60439)
,
BAKER David A.
(Argonne National Lab., Argonne, Illinois 60439)
,
HRYN Alexander J.
(Argonne National Lab., Argonne, Illinois 60439)
,
MARTINSON Alex B. F.
(Argonne National Lab., Argonne, Illinois 60439 and Dep. of Chemistry, Northwestern Univ., Evanston, Illinois 60208)
,
PELLIN Michael J.
(Argonne National Lab., Argonne, Illinois 60439)
,
HUPP Joseph T.
(Dep. of Chemistry, Northwestern Univ., Evanston, Illinois 60208)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 26 号： 2 ページ： 244 発行年： 2008年03月
JST資料番号： C0789B ISSN： 0734-2101 CODEN： JVTAD6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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