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文献
J-GLOBAL ID:200902293482451097   整理番号:08A0202488

テトラキス(ジメチルアミノ)すずを用いた酸化スズ膜の原子層蒸着

Atomic layer deposition of tin oxide films using tetrakis(dimethylamino) tin
著者 (6件):
ELAM Jeffrey W.
(Argonne National Lab., Argonne, Illinois 60439)
BAKER David A.
(Argonne National Lab., Argonne, Illinois 60439)
HRYN Alexander J.
(Argonne National Lab., Argonne, Illinois 60439)
MARTINSON Alex B. F.
(Argonne National Lab., Argonne, Illinois 60439 and Dep. of Chemistry, Northwestern Univ., Evanston, Illinois 60208)
PELLIN Michael J.
(Argonne National Lab., Argonne, Illinois 60439)
HUPP Joseph T.
(Dep. of Chemistry, Northwestern Univ., Evanston, Illinois 60208)

資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films  (Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)

巻: 26  号:ページ: 244  発行年: 2008年03月 
JST資料番号: C0789B  ISSN: 0734-2101  CODEN: JVTAD6  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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