文献
J-GLOBAL ID:200902293619950487
整理番号:07A0764941
ポリスチレン-ポリジメチルシロキサンブロック共重合体を用いた配向制御自己集合ナノリソグラフィー
Orientation-Controlled Self-Assembled Nanolithography Using a Polystyrene-Polydimethylsiloxane Block Copolymer
著者 (2件):
JUNG Yeon Sik
(Massachusetts Inst. of Technol., Massachusetts)
,
ROSS C. A.
(Massachusetts Inst. of Technol., Massachusetts)
資料名:
Nano Letters
(Nano Letters)
巻:
7
号:
7
ページ:
2046-2050
発行年:
2007年07月
JST資料番号:
W1332A
ISSN:
1530-6984
CODEN:
NALEFD
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)