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文献
J-GLOBAL ID：200902293825792103
整理番号：03A0612106
HfC被覆Si電界エミッタアレイの作製と評価
Fabrication and characterization of HfC coated Si field emitter arrays
SATO T
(Tsukuba Univ., Ibaraki, JPN)
,
YAMAMOTO S
(Tsukuba Univ., Ibaraki, JPN)
,
NAGAO M
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN)
,
MATSUKAWA T
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN)
,
KANEMARU S
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN)
,
ITOH J
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻： 21 号： 4 ページ： 1589-1593 発行年： 2003年07月
JST資料番号： E0974A ISSN： 1071-1023 CODEN： JVTBD9 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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