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文献
J-GLOBAL ID：200902293857872346
整理番号：06A0578324
HVMを目標にしたXeならびにSn燃料高出力ZピンチEUV光源の開発
Development of Xe- and Sn-fueled high-power Z-pinch EUV source aiming at HVM
TERAMOTO Yusuke
(Extreme Ultraviolet Lithography System Dev. Assoc.)
,
NIIMI Gohta
(Extreme Ultraviolet Lithography System Dev. Assoc.)
,
YAMATANI Daiki
(Extreme Ultraviolet Lithography System Dev. Assoc.)
,
JOSHIMA Yuki
(Extreme Ultraviolet Lithography System Dev. Assoc.)
,
BESSHO Kazunori
(Extreme Ultraviolet Lithography System Dev. Assoc.)
,
SHIRAI Takahiro
(Extreme Ultraviolet Lithography System Dev. Assoc.)
,
TAKEMURA Tetsu
(Extreme Ultraviolet Lithography System Dev. Assoc.)
,
YOKOTA Toshio
(Extreme Ultraviolet Lithography System Dev. Assoc.)
,
YABUTA Hironobu
(Extreme Ultraviolet Lithography System Dev. Assoc.)
,
PAUL Khokan C.
(Ushio Inc.)
,
KABUKI Kiyoyuki
(Extreme Ultraviolet Lithography System Dev. Assoc.)
,
MIYAUCHI Koji
(Extreme Ultraviolet Lithography System Dev. Assoc.)
,
IKEUCHI Mitsuru
(Extreme Ultraviolet Lithography System Dev. Assoc.)
,
HOTTA Kazuaki
(Extreme Ultraviolet Lithography System Dev. Assoc.)
,
YOSHIOKA Masaki
(Extreme Ultraviolet Lithography System Dev. Assoc.)
,
SATO Hiroto
(Extreme Ultraviolet Lithography System Dev. Assoc.)
資料名：
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻： 6151 号： Pt.2 ページ： 615147.1-615147.8 発行年： 2006年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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