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文献
J-GLOBAL ID：200902294114081006
整理番号：04A0477446
水素ラジカル注入に支援された容量結合プラズマ増強化学蒸着を用いた垂直整列カーボンナノウオールの製作
Fabrication of vertically aligned carbon nanowalls using capacitively coupled plasma-enhanced chemical vapor deposition assisted by hydrogen radical injection
HIRAMATSU M
(Meijo Univ., Nagoya, JPN)
,
SHIJI K
(Meijo Univ., Nagoya, JPN)
,
AMANO H
(Meijo Univ., Nagoya, JPN)
,
HORI M
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 84 号： 23 ページ： 4708-4710 発行年： 2004年06月07日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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