文献
J-GLOBAL ID:200902294584021999
整理番号:06A1029612
高分子自己集合を用いた高多孔質シリコン膜の作製
Highly porous silicon membrane fabrication using polymer self-assembly
著者 (8件):
BLACK C. T.
(IBM Thomas J. Watson Res. Center, Yorktown Heights, New York 10598)
,
GUARINI K. W.
(IBM Thomas J. Watson Res. Center, Yorktown Heights, New York 10598)
,
BREYTA G.
(IBM Thomas J. Watson Res. Center, Yorktown Heights, New York 10598)
,
COLBURN M. C.
(IBM Thomas J. Watson Res. Center, Yorktown Heights, New York 10598)
,
RUIZ R.
(IBM Thomas J. Watson Res. Center, Yorktown Heights, New York 10598)
,
SANDSTROM R. L.
(IBM Thomas J. Watson Res. Center, Yorktown Heights, New York 10598)
,
SIKORSKI E. M.
(IBM Thomas J. Watson Res. Center, Yorktown Heights, New York 10598)
,
ZHANG Y.
(IBM Thomas J. Watson Res. Center, Yorktown Heights, New York 10598)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻:
24
号:
6
ページ:
3188-3191
発行年:
2006年11月
JST資料番号:
E0974A
ISSN:
1071-1023
CODEN:
JVTBD9
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)