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文献
J-GLOBAL ID：200902295123619490
整理番号：08A0020828
極端紫外光源用のレーザ生成Snプラズマから発生する高速イオンのH2ガスによる低減
Mitigation of fast ions generated from laser-produced Sn plasma for extreme ultraviolet light source by H2 gas
NAKAMURA Daisuke
(Dep. of Electrical and Electronic Systems Engineering, Graduate School of Information Sci. and Electrical ...)
,
TAMARU Koji
(Dep. of Electrical and Electronic Systems Engineering, Graduate School of Information Sci. and Electrical ...)
,
HASHIMOTO Yuki
(Dep. of Electrical and Electronic Systems Engineering, Graduate School of Information Sci. and Electrical ...)
,
OKADA Tatsuo
(Dep. of Electrical and Electronic Systems Engineering, Graduate School of Information Sci. and Electrical ...)
,
TANAKA Hiroki
(Electronic Information Section, Basic Technol. Div., Industrial Technol. Center of Nagasaki, 2-1303-8 Ikeda, Omura ...)
,
TAKAHASHI Akihiko
(Dep. of Health Sciences, School of Medicine, Kyushu Univ., 3-1-1 Maidashi, Higashi-ku, Fukuoka 812-8582, JPN)
資料名：
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻： 102 号： 12 ページ： 123310 発行年： 2007年12月15日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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