文献
J-GLOBAL ID:200902295582440494
整理番号:09A0821718
プラズマ支援分子ビームエピタクシーによるTiO2基板上での(110)SnO2成長機構の研究
Investigation of (110) SnO2 growth mechanisms on TiO2 substrates by plasma-assisted molecular beam epitaxy
著者 (3件):
TSAI M. Y.
(Dep. of Electrical and Computer Engineering, Univ. of California, Santa Barbara, California 93106, USA)
,
WHITE M. E.
(Materials Dep., Univ. of California, Santa Barbara, California 93106, USA)
,
SPECK J. S.
(Dep. of Electrical and Computer Engineering, Univ. of California, Santa Barbara, California 93106, USA)
資料名:
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻:
106
号:
2
ページ:
024911
発行年:
2009年07月15日
JST資料番号:
C0266A
ISSN:
0021-8979
CODEN:
JAPIAU
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)