文献
J-GLOBAL ID:200902295883616067
整理番号:05A0708459
低-κシルセスキオキサン誘電体薄膜に関する電気的,組成的,および構造的研究
An Electrical, Compositional, and Structural Study on Low-k Silsesquioxane Dielectric Thin Films
著者 (4件):
LIGATCHEV V.
(Nanyang Technological Univ., Singapore)
,
GOH T.K.
(Nanyang Technological Univ., Singapore)
,
YU S.
(Nanyang Technological Univ., Singapore)
,
RUSLI
(Nanyang Technological Univ., Singapore)
資料名:
Journal of the Electrochemical Society
(Journal of the Electrochemical Society)
巻:
152
号:
7
ページ:
F83-F89
発行年:
2005年
JST資料番号:
C0285A
ISSN:
1945-7111
CODEN:
JESOAN
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)