文献
J-GLOBAL ID:200902295992260370
整理番号:08A0657859
集束イオンビーム誘起化学蒸着により成長させた炭素ナノピラーのYoung率の高さ依存性
Height Dependence of Young’s Modulus for Carbon Nanopillars Grown by Focused-Ion-Beam-Induced Chemical Vapor Deposition
著者 (8件):
NONAKA Keiichiro
(NTT Basic Res. Lab., Kanagawa, JPN)
,
NONAKA Keiichiro
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
,
TAMARU Kojiro
(NTT Basic Res. Lab., Kanagawa, JPN)
,
TAMARU Kojiro
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
,
NAGASE Masao
(NTT Basic Res. Lab., Kanagawa, JPN)
,
YAMAGUCHI Hiroshi
(NTT Basic Res. Lab., Kanagawa, JPN)
,
WARISAWA Shin’ichi
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
,
ISHIHARA Sunao
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻:
47
号:
6 Issue 2
ページ:
5116-5119
発行年:
2008年06月25日
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
CODEN:
JJAPB6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)