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文献
J-GLOBAL ID:200902295992260370   整理番号:08A0657859

集束イオンビーム誘起化学蒸着により成長させた炭素ナノピラーのYoung率の高さ依存性

Height Dependence of Young’s Modulus for Carbon Nanopillars Grown by Focused-Ion-Beam-Induced Chemical Vapor Deposition
著者 (8件):
NONAKA Keiichiro
(NTT Basic Res. Lab., Kanagawa, JPN)
NONAKA Keiichiro
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
TAMARU Kojiro
(NTT Basic Res. Lab., Kanagawa, JPN)
TAMARU Kojiro
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
NAGASE Masao
(NTT Basic Res. Lab., Kanagawa, JPN)
YAMAGUCHI Hiroshi
(NTT Basic Res. Lab., Kanagawa, JPN)
WARISAWA Shin’ichi
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
ISHIHARA Sunao
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)

資料名:
Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)

巻: 47  号: 6 Issue 2  ページ: 5116-5119  発行年: 2008年06月25日 
JST資料番号: G0520B  ISSN: 0021-4922  CODEN: JJAPB6  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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