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文献
J-GLOBAL ID:200902296014974120   整理番号:06A0073306

rf反応スパッタリングにより作製したTi-Si-N被覆の微細構造及び特性に及ぼすターゲット材料の影響

Influence of Target Material on the Microstructure and Properties of Ti-Si-N Coatings Prepared by r.f.-Reactive Sputtering
著者 (6件):
NOSE Masateru
(Takaoka National Coll., Takaoka, JPN)
DEGUCHI Yutaka
(Toyama Univ., Toyama, JPN)
HONBO Eiji
(Toyama Industrial Res. Center, Takaoka, JPN)
CHIOU Wen-An.
(Univ. California, CA, USA)
MAE Takehiko
(Toyama National Coll. of Technol., Toyama, JPN)
NOGI Kiyoshi
(Osaka Univ., Ibaraki, JPN)

資料名:
Materials Transactions  (Materials Transactions)

巻: 46  号:ページ: 1911-1917  発行年: 2005年08月20日 
JST資料番号: G0668A  ISSN: 1345-9678  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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