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文献
J-GLOBAL ID：200902296032472280
整理番号：08A0569130
150~200mmの基板へのマイクロ波プラズマ支援の化学蒸気ダイヤモンド蒸着プロセスのスケール付け
Scaling the microwave plasma-assisted chemical vapor diamond deposition process to 150-200 mm substrates
KING D.
(Fraunhofer USA Center for Coatings and Laser Applications, East Lansing, Michigan, USA)
,
YARAN M.k.
(Fraunhofer USA Center for Coatings and Laser Applications, East Lansing, Michigan, USA)
,
SCHUELKE T.
(Fraunhofer USA Center for Coatings and Laser Applications, East Lansing, Michigan, USA)
,
GROTJOHN T.a.
(Fraunhofer USA Center for Coatings and Laser Applications, East Lansing, Michigan, USA)
,
GROTJOHN T.a.
(Michigan State Univ., Electrical & Computer Eng., East Lansing, Michigan, USA)
,
REINHARD D.k.
(Fraunhofer USA Center for Coatings and Laser Applications, East Lansing, Michigan, USA)
,
REINHARD D.k.
(Michigan State Univ., Electrical & Computer Eng., East Lansing, Michigan, USA)
,
ASMUSSEN J.
(Fraunhofer USA Center for Coatings and Laser Applications, East Lansing, Michigan, USA)
,
ASMUSSEN J.
(Michigan State Univ., Electrical & Computer Eng., East Lansing, Michigan, USA)
資料名：
Diamond and Related Materials
(Diamond and Related Materials)
巻： 17 号： 4-5 ページ： 520-524 発行年： 2008年04月
JST資料番号： W0498A ISSN： 0925-9635 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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