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文献
J-GLOBAL ID：200902296131441787
整理番号：04A0198815
FドープSiO2ガラスにおける密度と濃度の変動
Density and concentration fluctuations in F-doped SiO2 glass
WATANABE T
(Toyota Technological Inst., Aichi, JPN)
,
SAITO K
(Toyota Technological Inst., Aichi, JPN)
,
IKUSHIMA A J
(Toyota Technological Inst., Aichi, JPN)
資料名：
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻： 95 号： 5 ページ： 2432-2435 発行年： 2004年03月01日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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