文献
J-GLOBAL ID:200902296657247659
整理番号:07A0666493
コバルトシリサイド化に及ぼすプラズマ損傷の影響
Impact of plasma damage on cobalt silicidation
著者 (7件):
KIMURA T.
(Semiconductor Technol. Dev. Group, Semiconductor Business Unit, Sony Corp., 4-14-1 Asahi-cho, Atsugi-shi, Kanagawa ...)
,
KUGIMIYA K.
(Semiconductor Technol. Dev. Group, Semiconductor Business Unit, Sony Corp., 4-14-1 Asahi-cho, Atsugi-shi, Kanagawa ...)
,
OHCHI T.
(Semiconductor Technol. Dev. Group, Semiconductor Business Unit, Sony Corp., 4-14-1 Asahi-cho, Atsugi-shi, Kanagawa ...)
,
FUKE K.
(Semiconductor Technol. Dev. Group, Semiconductor Business Unit, Sony Corp., 4-14-1 Asahi-cho, Atsugi-shi, Kanagawa ...)
,
KATAOKA T.
(Semiconductor Technol. Dev. Group, Semiconductor Business Unit, Sony Corp., 4-14-1 Asahi-cho, Atsugi-shi, Kanagawa ...)
,
TATSUMI T.
(Semiconductor Technol. Dev. Group, Semiconductor Business Unit, Sony Corp., 4-14-1 Asahi-cho, Atsugi-shi, Kanagawa ...)
,
KAMIDE Y.
(Semiconductor Technol. Dev. Group, Semiconductor Business Unit, Sony Corp., 4-14-1 Asahi-cho, Atsugi-shi, Kanagawa ...)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻:
25
号:
4
ページ:
1068
発行年:
2007年07月
JST資料番号:
C0789B
ISSN:
0734-2101
CODEN:
JVTAD6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)