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文献
J-GLOBAL ID：200902297574073078
整理番号：03A0436697
90nmノードCu/Low-k配線の信頼性改善
Reliability Improvement of 90nm-node Cu/Low-k Interconnect
橋本圭司
(ルネサステクノロジ)
,
松本晋
(松下電器産業)
,
石井敦司
(ルネサステクノロジ)
,
冨田和朗
(ルネサステクノロジ)
,
西岡康隆
(ルネサステクノロジ)
,
関口満
(松下電器産業)
,
岩崎晃久
(松下半導体エンジニアリング)
,
磯野俊介
(ルネサステクノロジ)
資料名：
半導体・集積回路技術シンポジウム講演論文集
(Proceedings of the Symposium on Semiconductors and Integrated Circuits Technology)
巻： 64th ページ： 78-81 発行年： 2003年06月05日
JST資料番号： F0108B 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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