文献
J-GLOBAL ID:200902297901122410
整理番号:03A0849762
異なる温度及び速度で堆積したZrO2薄膜における残留応力及び微細構造の変化
Evolutions of residual stress and microstructure in ZrO2 thin films deposited at different temperatures and rates
著者 (4件):
SHAO S
(Shanghai Inst. Optics and Fine Mechanics, Chinese Acad. Sci., Shanghai, CHN)
,
FAN Z
(Shanghai Inst. Optics and Fine Mechanics, Chinese Acad. Sci., Shanghai, CHN)
,
SHAO J
(Shanghai Inst. Optics and Fine Mechanics, Chinese Acad. Sci., Shanghai, CHN)
,
HE H
(Shanghai Inst. Optics and Fine Mechanics, Chinese Acad. Sci., Shanghai, CHN)
資料名:
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻:
445
号:
1
ページ:
59-62
発行年:
2003年11月24日
JST資料番号:
B0899A
ISSN:
0040-6090
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)