文献
J-GLOBAL ID:200902298320346186
整理番号:05A0588838
原子間力顕微鏡によって解析したArFエキシマレジスト表面上のナノ規模気泡の凝縮挙動
Condensation Behavior of Nanoscale Bubbles on ArF Excimer Resist Surface Analyzed by Atomic Force Microscope
著者 (1件):
KAWAI Akira
(Nagaoka Univ. Technol., Niigata, JPN)
資料名:
Journal of Photopolymer Science and Technology
(Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻:
18
号:
3
ページ:
349-354
発行年:
2005年
JST資料番号:
L0202A
ISSN:
0914-9244
CODEN:
JSTEEW
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)