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文献
J-GLOBAL ID：200902298880467051
整理番号：06A0790421
ラジカルソース分子線エピタキシャル法によって成長させたZn極性を持つZnMgO/ZnOヘテロ構造における2次元電子ガス
Two-dimensional electron gas in Zn polar ZnMgO/ZnO heterostructures grown by radical source molecular beam epitaxy
TAMPO H.
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), 1-1-1 Umezono, Tsukuba, Ibaraki 305-8568, JPN)
,
SHIBATA H.
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), 1-1-1 Umezono, Tsukuba, Ibaraki 305-8568, JPN)
,
MATSUBARA K.
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), 1-1-1 Umezono, Tsukuba, Ibaraki 305-8568, JPN)
,
YAMADA A.
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), 1-1-1 Umezono, Tsukuba, Ibaraki 305-8568, JPN)
,
FONS P.
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), 1-1-1 Umezono, Tsukuba, Ibaraki 305-8568, JPN)
,
NIKI S.
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), 1-1-1 Umezono, Tsukuba, Ibaraki 305-8568, JPN)
,
YAMAGATA M.
(Tokyo Univ. of Sci., 2641 Yamazaki, Noda, Chiba 278-8510 Japan)
,
KANIE H.
(Tokyo Univ. of Sci., 2641 Yamazaki, Noda, Chiba 278-8510 Japan)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 89 号： 13 ページ： 132113-132113-3 発行年： 2006年09月25日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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