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文献
J-GLOBAL ID：200902299158362012
整理番号：06A0098343
反応性直流マグネトロンスパッタリングにより室温で作製した透明導電性In2O3:Mo薄膜
Transparent conductive In2O3:Mo thin films prepared by reactive direct current magnetron sputtering at room temperature
MIAO Wei-na
(Dep. of Materials Sci., Fudan Univ., Shanghai 200433, CHN)
,
LI Xi-feng
(Dep. of Materials Sci., Fudan Univ., Shanghai 200433, CHN)
,
ZHANG Qun
(Dep. of Materials Sci., Fudan Univ., Shanghai 200433, CHN)
,
HUANG Li
(Dep. of Materials Sci., Fudan Univ., Shanghai 200433, CHN)
,
ZHANG Zhuang-jian
(Dep. of Materials Sci., Fudan Univ., Shanghai 200433, CHN)
,
ZHANG Li
(Dep. of Materials Sci., Fudan Univ., Shanghai 200433, CHN)
,
YAN Xue-jian
(Dep. of Materials Sci., Fudan Univ., Shanghai 200433, CHN)
資料名：
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻： 500 号： 1-2 ページ： 70-73 発行年： 2006年04月03日
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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