文献
J-GLOBAL ID:200902299302868961
整理番号:06A0340259
多重パルスエキシマレーザアニールによる多結晶シリコンの粒子拡大:水素の役割
Grain Enlargement of Polycrystalline Silicon by Multipulse Excimer Laser Annealing: Role of Hydrogen
著者 (9件):
KAWAMOTO Naoya
(Yamaguchi Univ., Yamaguchi, JPN)
,
MASUDA Atsushi
(Japan Advanced Inst. Sci. and Technol., Ishikawa, JPN)
,
MATSUO Naoto
(Univ. Hyogo, Hyogo, JPN)
,
SERI Yasuhiro
(Japan Advanced Inst. Sci. and Technol., Ishikawa, JPN)
,
NISHIMORI Toshimasa
(Yamaguchi Univ., Yamaguchi, JPN)
,
KITAMON Yoshitaka
(Yamaguchi Univ., Yamaguchi, JPN)
,
MATSUMURA Hideki
(Japan Advanced Inst. Sci. and Technol., Ishikawa, JPN)
,
HAMADA Hiroki
(SANYO Electric Co., Ltd., Osaka, JPN)
,
MIYOSHI Tadaki
(Yamaguchi Univ., Yamaguchi, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻:
45
号:
4A
ページ:
2726-2730
発行年:
2006年04月15日
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)