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文献
J-GLOBAL ID:200902299302868961   整理番号:06A0340259

多重パルスエキシマレーザアニールによる多結晶シリコンの粒子拡大:水素の役割

Grain Enlargement of Polycrystalline Silicon by Multipulse Excimer Laser Annealing: Role of Hydrogen
著者 (9件):
KAWAMOTO Naoya
(Yamaguchi Univ., Yamaguchi, JPN)
MASUDA Atsushi
(Japan Advanced Inst. Sci. and Technol., Ishikawa, JPN)
MATSUO Naoto
(Univ. Hyogo, Hyogo, JPN)
SERI Yasuhiro
(Japan Advanced Inst. Sci. and Technol., Ishikawa, JPN)
NISHIMORI Toshimasa
(Yamaguchi Univ., Yamaguchi, JPN)
KITAMON Yoshitaka
(Yamaguchi Univ., Yamaguchi, JPN)
MATSUMURA Hideki
(Japan Advanced Inst. Sci. and Technol., Ishikawa, JPN)
HAMADA Hiroki
(SANYO Electric Co., Ltd., Osaka, JPN)
MIYOSHI Tadaki
(Yamaguchi Univ., Yamaguchi, JPN)

資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)

巻: 45  号: 4A  ページ: 2726-2730  発行年: 2006年04月15日 
JST資料番号: G0520B  ISSN: 0021-4922  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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