文献
J-GLOBAL ID:200902299475082521
整理番号:03A0393030
分光偏光解析法を用いたその場モニタリングによる高k誘電体薄膜のパルス源MOCVD
Pulsed-Sorce MOCVD of High-k Dielectric Thin Films with in situ Monitoring by Spectroscopic Ellipsometry
著者 (6件):
TSUCHIYA Y
(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
,
ENDOH M
(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
,
KUROSAWA M
(Musashi Inst. Technol., Tokyo, JPN)
,
TUNG R T
(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
,
HATTORI T
(Musashi Inst. Technol., Tokyo, JPN)
,
ODA S
(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻:
42
号:
4B
ページ:
1957-1961
発行年:
2003年04月30日
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)