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文献
J-GLOBAL ID：200902299477582424
整理番号：03A0471267
磁場中の高周波マイクロプラズマ源の開発
Development of high frequency micro plasma source in a magnetic field
MATSUSHITA M
(Nagasaki Univ., Nagasaki, JPN)
,
MATSUDA Y
(Nagasaki Univ., Nagasaki, JPN)
,
FUJIYAMA H
(Nagasaki Univ., Nagasaki, JPN)
資料名：
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻： 435 号： 1/2 ページ： 285-287 発行年： 2003年07月01日
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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