文献
J-GLOBAL ID:200902299710146010
整理番号:08A1259983
酸化ハフニウムベース不揮発性メモリの再現できる抵抗スイッチング挙動
Reproducible resistance switching characteristics of hafnium oxide-based nonvolatile memory devices
著者 (2件):
KIM Yong-mu
(School of Advanced Materials Engineering, Kookmin Univ., Seoul 136-702, KOR)
,
LEE Jang-sik
(School of Advanced Materials Engineering, Kookmin Univ., Seoul 136-702, KOR)
資料名:
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻:
104
号:
11
ページ:
114115
発行年:
2008年12月01日
JST資料番号:
C0266A
ISSN:
0021-8979
CODEN:
JAPIAU
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)