文献
J-GLOBAL ID:201002000507075994
整理番号:80A0186835
マグネトロン-プラズマトロンを用いた五酸化タンタルと二酸化チタンの反応性直流スパッタリング
Reactive D.C. sputtering with the magnetron-plasmatron for tantalum pentoxide and titanium dioxide films.
著者 (4件):
SCHILLER S
(Forschungsinst. Manfred von Ardenne, G.D.R.)
,
HEISIG U
(Forschungsinst. Manfred von Ardenne, G.D.R.)
,
STEINFELDER K
(Forschungsinst. Manfred von Ardenne, G.D.R.)
,
STRUEMPFEL J
(Forschungsinst. Manfred von Ardenne, G.D.R.)
資料名:
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻:
63
号:
2
ページ:
369-375
発行年:
1979年
JST資料番号:
B0899A
ISSN:
0040-6090
CODEN:
THSFA
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
スイス (CHE)
言語:
英語 (EN)