文献
J-GLOBAL ID:201002001241027987
整理番号:80A0032345
ポリ-(メタクリル酸メチル)電子レジストの現像した輪郭線の分子量依存性
Molecular-weight dependence of developed contours in poly-(methyl methacrylate) electron resists.
著者 (3件):
ATODA N
(Electotechnical Lab., Tokyo)
,
KOMURO M
(Electotechnical Lab., Tokyo)
,
KAWAKATSU H
(Electotechnical Lab., Tokyo)
資料名:
J Appl Phys
(Journal of Applied Physics)
巻:
50
号:
5
ページ:
3707-3712
発行年:
1979年
JST資料番号:
C0266A
ISSN:
0021-8979
CODEN:
JAPIA
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)