文献
J-GLOBAL ID:201002003414686445
整理番号:80A0181725
CZ Si結晶における微小欠陥と残留不純物の熱処理振舞い
Heat-treatment behavior of microdefects and residual impurities in CZ silicon crystals.
著者 (5件):
KISHINO S
(VLSI Technology Research Assoc., Kawasaki)
,
KANAMORI M
(VLSI Technology Research Assoc., Kawasaki)
,
YOSHIHIRO N
(VLSI Technology Research Assoc., Kawasaki)
,
TAJIMA M
(VLSI Technology Research Assoc., Kawasaki)
,
LIZUKA T
(VLSI Technology Research Assoc., Kawasaki)
資料名:
J Appl Phys
(Journal of Applied Physics)
巻:
50
号:
12
ページ:
8240-8243
発行年:
1979年
JST資料番号:
C0266A
ISSN:
0021-8979
CODEN:
JAPIA
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)