文献
J-GLOBAL ID:201002034759397996
整理番号:80A0019892
スパッタAl-Si合金膜のエレクトロマイグレーション
Electromigration of sputtered Al-Si alloy films.
著者 (4件):
NAGASAWA E
(Nippon Electric Co., Ltd., Kawasaki-Shi)
,
OKABAYASHI H
(Nippon Electric Co., Ltd., Kawasaki-Shi)
,
NOZAKI T
(Nippon Electric Co., Ltd., Kawasaki-Shi)
,
NIKAWA K
(Nippon Electric Co., Ltd., Kawasaki-Shi)
資料名:
Annu Proc Reliab Phys
(Annual Proceedings. IEEE International Reliability Physics Symposium)
巻:
17th
ページ:
64-71
発行年:
1979年
JST資料番号:
A0631A
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)