文献
J-GLOBAL ID:201002038579605510
整理番号:80A0011083
負の表面電離 強力なハロゲン・イオン源
Negative surface ionization: Intense halogen-ion source.
著者 (3件):
PELLETIER J
(Univ. Scientifique et M<span style=text-decoration:overline>e ́</span>dicale de Grenoble, France)
,
POMOT C
(Univ. Scientifique et M<span style=text-decoration:overline>e ́</span>dicale de Grenoble, France)
,
COCAGNE J
(Univ. Scientifique et M<span style=text-decoration:overline>e ́</span>dicale de Grenoble, France)
資料名:
J Appl Phys
(Journal of Applied Physics)
巻:
50
号:
7
ページ:
4517-4523
発行年:
1979年
JST資料番号:
C0266A
ISSN:
0021-8979
CODEN:
JAPIA
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)