文献
J-GLOBAL ID:201002049209673608
整理番号:80A0181785
電子ビーム励起キセノンの193nmの吸収の研究
Absorption studies at 193 nm in e-beam excited xenon.
著者 (2件):
DUZY C
(Avco-Everett Research Lab., Inc., Massachusetts)
,
BONESS M J W
(Avco-Everett Research Lab., Inc., Massachusetts)
資料名:
Appl Phys Lett
(Applied Physics Letters)
巻:
35
号:
12
ページ:
903-905
発行年:
1979年
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLA
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)