文献
J-GLOBAL ID:201002054608337020
整理番号:80A0030988
Arイオン衝撃の間のAl-Si系における高揚相互拡散
Enhanced interdiffusion in the Al-Si system during Ar ion bombardment.
著者 (5件):
NAKAJIMA M
(Matsushita Electric Industrial Co., Ltd., Osaka)
,
KUSAO K
(Matsushita Electric Industrial Co., Ltd., Osaka)
,
HIRAO T
(Matsushita Electric Industrial Co., Ltd., Osaka)
,
INOUE K
(Matsushita Electric Industrial Co., Ltd., Osaka)
,
TAKAYANAGI S
(Matsushita Electric Industrial Co., Ltd., Osaka)
資料名:
Jpn J Appl Phys
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻:
18
号:
9
ページ:
1869-1870
発行年:
1979年
JST資料番号:
G0520A
ISSN:
0021-4922
CODEN:
JJAPA
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)