文献
J-GLOBAL ID:201002056643025858
整理番号:80A0100959
プラズマ蒸着法によるa-Si:H膜における成長形態と欠陥
Growth morphology and defects in plasma-deposited a-Si:H films.
著者 (1件):
KNIGHTS J C
(Xerox Palo Alto Research Center, California)
資料名:
J Non-Cryst Solid
(Journal of Non-Crystalline Solids)
巻:
35/36
号:
1
ページ:
159-170
発行年:
1980年
JST資料番号:
D0642A
ISSN:
0022-3093
CODEN:
JNCSB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)