文献
J-GLOBAL ID:201002057078976696
整理番号:79A0309299
5keV Arイオン照射後のCuにおける欠陥集合体の電子顕微鏡法による研究
Elektronenmikroskopische Beobachtung von Fehlstellenagglomeraten in Kupfer nach Beschuss mit 5 keV Argonionen.
著者 (1件):
HERTEL B
資料名:
Philos Mag A
(Philosophical Magazine. A. Physics of Condensed Matter: Structure, Defects and Mechanical Properties)
巻:
40
号:
3
ページ:
331-349
発行年:
1979年
JST資料番号:
E0753B
ISSN:
0031-8086
CODEN:
PHMAA
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
ドイツ語 (DE)