文献
J-GLOBAL ID:201002059649709510
整理番号:80A0149311
シリコンにおける酸素の析出
Oxygen precipitation in silicon.
著者 (4件):
PATRICK W
(International Business Machines, New York)
,
HEARN E
(International Business Machines, New York)
,
WESTDORP W
(International Business Machines, New York)
,
BOHG A
(International Business Machines, New York)
資料名:
J Appl Phys
(Journal of Applied Physics)
巻:
50
号:
11 Pt 1
ページ:
7156-7164
発行年:
1979年
JST資料番号:
C0266A
ISSN:
0021-8979
CODEN:
JAPIA
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)